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Der EddyCus® inline misst automatisiert und berührungsfrei Schichteigenschaften wie Metallschichtdicke oder den Flächenwiderstand auf diversen Substraten mit einer beliebigen Breite und Dicke direkt im Prozess. Typische Substrate sind Glas, Folie, Papier, Wafer, Kunststoffe oder Keramiken. Mittels permanenter Messung bzw. definierter Ermittlung von Messwerten zu vom Anlagenbetreiber definierten Zeitpunkten bzw. Triggersignalen ist eine Prozessüberwachung sowohl an Atmosphäre, als auch und im Vakuum möglich. Die Messung erfolgt in Echtzeit und kann mit der EddyCus® Control Software live visualisiert, gespeichert oder analysiert werden. Alternativ können die Messwerte auch direkt an die Anlagensteuerung übermittelt und Prozessparameter angepasst werden.
Für Erreichung diese Ziele bietet SURAGUS inline- und offline-Prüfsysteme an.
SURAGUS bietet Inline- und Offline-Testsysteme an, um das Erreichen dieser Ziele zu unterstützen.
Dieses berührungslose Schichtwiderstandsüberwachungssystem misst im Fertigungsprozess den Schichtwiderstand mit hoher Geschwindigkeit. Typische Prozesse sind PVD-, CVD-, galvanische oder konventionelle Abscheideprozesse auf Wafern, Folien, Papier, Polymere oder anderen Substraten. Dazu gehören insbesondere Sputter-, Aufdampf-, Epitaxie- oder Galvanikprozesse. Zusätzlich gehören dazu auch Sprüh-, Slot-Die-Beschichtungs- oder elektronische Druckverfahren. Darüber hinaus profitieren Prozesse zur Erhöhung des Schichtwiderstandes wie das Tempern und Dotieren von Dünnschichten oder das Sintern von gedruckter Elektronik von der Inline-Überwachung der elektrischen Integrität. Oxidation, Ätzen, Polieren und auch der Einfluss von Reinigungs- und Trocknungsprozessen gehören ebenfalls zum breiten Anwendungsspektrum dieser modernen Prüftechnik. Die Schichtwiderstandswerte werden typischerweise an MES-Systeme zur Qualitätssicherung und insbesondere zur Prozesskontrolle übertragen.
Measurement technology | Non-contact eddy current sensor |
Substrates | Boules, ingots, wafer, foils, glass, etc. |
Measurement gap size | 3 / 5 / 10 / 15 / 25 / 50 mm (other upon request) |
Number of sensor pairs / monitoring lanes | 1 – 99 |
Sensor sizes (W x L x H) in mm | Sensor M: 80 x 100 x 66 Sensor S: 34 x 48 x 117 |
Conductive layers | Metals/ TCOs/ CNTs/ nanowires/ graphene/ grids/ PEDOT/ others |
Thickness measurement of metal films (e.g. Al, Ag, Mo, Ag paste) | 1 nm – 2 mm (in accordance with sheet resistance) ()) |
Other integrated measurements | Metal thickness / optical transmittance / density / anisotropy |
Environment | Ex-vacuo / in-vacuo @ T < 60°C / 140°F (higher on request) |
Sample rate | 1 / 10 / 50 / 100 / 1,000 measurements per second |
Hardware trigger | 5 / 12 / 24 V |
Interfaces | UDP, .Net libraries, TCP, Modbus, analog/digital |
VLSR | LSR | MSR | HSR | ||
---|---|---|---|---|---|
6 decades are measurable by one sensor, but with slightly affected accuracy | |||||
Range [Ohm/sq] | 0,0001 – 0.1 | 0,01 – 10 | 0,1 – 100 | 10 – 2.000 | |
Accuracy / Bias | ± 1% | ± 1 – 3% | |||
Repeatability (2σ) | < 0.3% | < 0.5% | |||
VLSR – Very Low Sheet Resistance , LSR – Low Sheet Resistance , MSR – Medium Sheet Resistance , HSR – High Sheet Resistance |
Kontaktieren Sie gerne unser Team für
Dieses berührungslose Metalldickenüberwachungssystem bietet eine sofortige Rückmeldung für Fertigungsprozesse zur Schichtabscheidung und Schichtentfernung. Typische Abscheidungsprozesse sind Sputtern, Aufdampfen, Plattieren oder Atomlagenabscheidung (ALD) z. B. auf Wafer, Folie, Glas, Keramik (z. B. PCT), Papier, Polymere oder anderen Substraten. Zu den Schichtabtragsverfahren gehören Polieren (CMP), Ätzen oder Laserritzen. Das technische Konzept umfasst reflektive und transmittive Wirbelstromsensoren und Sensoraufbauten. Die Integration in vorhandene Informationssysteme wird durch eine breite Palette an Schnittstellenoptionen unterstützt.
Measurement technology | Non-contact eddy current sensor |
Substrates | Foil, glass, wafer, etc. |
Measurement gap size | 3 / 5 / 10 / 15 / 25 / 50 mm (other upon request) |
Number of monitoring lanes | 1 – 99 |
Sensor sizes (W x L x H) in mm | Sensor M: 80 x 100 x 66 Sensor S: 34 x 48 x 117 |
Conductive layers | Metals |
Metal thickness range Accuracies depend on the selected setup and the type / conductivity of the metal (e.g. copper, aluminum, silver) |
Low 1 – 10 nm; 2 – 5 % accuracy Standard 10 – 1,000 nm; 1 – 3 % accuracy High 1 – 100 µm; 0.5 – 3 % accuracy |
Metal thickness calibration | Direct thickness calibration / sheet resistance conversion |
Other integrated measurements | Temperature (for integrated temperature drift compensation for long term measurements) |
Environment | Ex-vacuo / in-vacuo @ T < 60°C / 140°F (higher upon request) |
Sample rate | 1 / 10 / 50 / 100 / 1,000 measurements/s (25,000 Hz upon request) |
Hardware trigger | 24 V (5 or 12 V upon request) |
Interfaces | UDP, TCP, .Net libraries, Modbus, Profinet, analog/digital, CSV, XML, other |
Further available features / other tool configurations | Sheet resistance measurement / conductivity / resistivity / anisotropy / emissivity / permeability (beta) |
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Die Fähigkeit zur zerstörungsfreien und berührungslosen Inline-Messung der elektrischen Anisotropie ist eine einzigartige Fähigkeit von SURAGUS. Die Inline-A-Serie induziert Ströme in zwei oder vier Richtungen und kann dadurch gleichzeitig den Schichtwiderstand für verschiedenen Richtungen messen. Die meisten Inline-Anwendungen verwendet das Setup basierend auf zwei Messrichtungen. Hier ist die Maschinenrichtung aus prozesstechnischen Gründen und wegen des Flusses des Abscheidungsmaterials bekanntlich die dominante Ausrichtungsrichtung. Wenn die dominante Ausrichtungsrichtung des leitenden Materials nicht bekannt ist, wird der Vier-Sensor-Aufbau verwendet. Diese Sensorreihe wird für Schlitzdüsen- oder Sprühbeschichtung, Siebdruck oder Spinnprozesse verwendet. Typische Materialien sind Silber-Nanodrähte, Nanoröhren oder Nanobuds, anisotrope Netze oder Strukturen oder Materialien mit anisotropen Domänengrößen oder Schichten (Stacks) mit erweiterten Stromtransportfunktionen. Sie werden verwendet, um die Isotropie zu kontrollieren oder um spezielle Anisotropien zu erreichen, bei denen der Stromfluss in bestimmte Richtungen optimiert werden soll. In einigen Fällen werden diese Systeme zur Messung an strukturierten Materialien oder zur Identifizierung von Defekten eingesetzt.
Measurement technology | Non-contact eddy current sensors with directed current induction |
Substrates | Foils, glass, wafer, etc. |
Measurement gap size | 5 / 10 / 15 / 25 / 50 / 75 mm |
Number of sensor pairs / monitoring lanes | 1 – 99 |
Sensor sizes (W x L x H) in mm | Sensor M: 80 x 100 x 66 Sensor S: 34 x 48 x 117 |
Sheet resistance range | 0.01 – 1,000 Ohm/sq; 1 to 5 % accuracy |
Anisotropy range (TD/MD) | 0.33 – 3 (larger upon request) |
Environment | Ex-vacuo/ in-vacuo @ T < 60°C / 140°F (higher upon request) |
Sample rate | 1 / 10 / 50 / 100 / 1,000 measurements per second |
Hardware trigger | 5 / 12 / 24 V |
Interfaces | UDP, .Net libraries, TCP, Modbus, analog/digital |
Further available features | Metal thickness, optical transmittance and reflectance (OEM) |
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Die HF-Serie nutzt hochfrequente (HF) elektromagnetische Felder, die mit Schichten interagieren und dabei verschiedene Effekte nutzen. Diese Systeme werden zur Analyse von dielektrischen und elektrischen Eigenschaften eingesetzt. Zu den Anwendungen gehören Messungen wie Restfeuchte und Schichtdicken von Nassbeschichtungen. Zu den Prozessen gehören Spritzen, Schlitzdüsenbeschichtung, Vorhangbeschichtung und viele weitere Nassbeschichtungsprozesse. Zusätzlich können Trocknungs- und Kalandrierprozesse überwacht werden.
Measurement technology | Non-contact high frequency eddy current sensor |
Substrates | Foils, glass, pipes, various containers and transport items |
Max. sample thickness/ sensor gap | Transmission setup: 3 – 50 mm (defined by the thickest sample) Reflection setups: infitive (only surface area is analyzed) |
Number of sensor pairs / monitoring lanes | 1 – 99 |
Sensor sizes (W x L x H) in mm | Sensor M: 80 x 100 x 66 Sensor S: 34 x 48 x 117 |
Measurement types | Wet thickness (µm) / weight (g/m²) / drying status (%) / conductivity (MS/m) / resistivity (mOhm cm) / permeability (H/m) Beta / permittivity (F/m) Beta |
Measurement range / accuracy | Depends on the measurement task and the material composition and test object volume. Please consult with the SURAGUS team |
Further available measurements | Sheet resistance, metal thickness, anisotropy, optical transparency, reflection, haze |
Environment | Ex-vacuo In-vacuo ATEX on request T < 60°C (higher upon request) |
Sample rate | 1 / 10 / 50 / 100 / 1,000 measurements per second |
Hardware trigger | 5 / 12 / 24 V |
Interfaces | UDP, .Net libraries, TCP, Modbus, analog/digital |
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Die Sensoren des EddyCus® Inline RM messen den Widerstand, die Leitfähigkeit oder verwandte Parameter in Verarbeitungs- oder automatisch agierenden Werkzeugen und Fertigungslinien. Zu den messbaren Materialien gehören Halbleiter wie Si, SiC, GaAs, GaN, SiSiC sowie Metalle und Legierungen oder andere leitfähige Materialien. Zu den Anwendungen in der PV- oder Halbleiterindustrie gehören die Charakterisierung von Wafern, Boule oder Ingot. Darüber hinaus kann die Temperatur von Wafern, Metallen und Metallschichten durch die Ausnutzung der Korrelation von Temperatur und Widerstand gemessen werden. Bulk- oder Volumenmaterialien werden mit Reflektionssensoren charakterisiert. Verschiedene Eindringtiefen können durch Sensor- und Frequenzvariation erreicht werden. Weitere Anwendungen sind die Integritätsabbildung von strukturierten Folien oder gedruckter Elektronik auf 3D-Formen.
Measurement technology | High frequency eddy current sensor |
Penetration depth | 10 µm to 10 mm (depending on conductivity and measurement frequency 10 kHz to 50 MHz cf. technology page) |
Spot size | Various sensors are available. Coil size is 875 µm to 100 mm |
Substrates | Wafer, metals, alloys, ceramics, plastics etc. |
Measurement gap size | 5 / 10 / 15 / 25 / 50 / 75 mm |
Number of sensor | 1 – 99 |
Sensor sizes (W x L x H) in mm | Sensor M: 80 x 100 x 66 Sensor S: 34 x 48 x 117 |
Materials | Semiconductors, metals, alloys, conductive polymers, conductive ceramics |
Measurement mode | Single side reflection mode or transmittance mode with total thickness measurement |
Conductive layers | Metals/ TCOs/ CNTs/ nanowires/ graphene/ grids/ PEDOT/ others |
Resistivity range | 0.1 – 1,000 mOhm·cm |
Conductivity range | 0.01 – 65 MS/m (cf. our calculator)) |
Environment | Ex-vacuo/ in-vacuo @ T < 60°C / 140°F (higher upon request) |
Sample rate | 1 / 10 / 50 / 100 / 1,000 measurements per second |
Other integrated measurements | Metal thickness / optical transmittance / density / anisotropy |
Hardware trigger | 5 / 12 / 24 V |
Interfaces | UDP, .Net libraries, TCP, Modbus, analog/digital |
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SURAGUS bietet vier Sensorvarianten an
Der Sensor S (S für small) ist der beliebteste Sensortyp bei SURAGUS. Seine Abmessungen sind 34 x 48 x 117 (BLH) und er passt in enge Zwischenräume zwischen Rollen oder andere Geometrien im Integrationsbereich. Es gibt zwei Arten von Kabelausgängen (oben und seitlich), die eine saubere Integration und eine optimale Verkabelung unterstützen. SURAGUS bietet zwei Arten von Halterungen an, die verschiedene Montagearten ermöglichen (oben, seitlich ...) und eine einfache Höhenanpassung des Sensors ermöglichen. Dieser Sensor ist für Nicht-Vakuum- und Vakuumanwendungen erhältlich.
Der Sensor M benötigt im Vergleich zum Sensor S weniger vertikalen Platz und wird häufig in Räumen mit wenig Platz unter und über dem Integrationsbereich eingesetzt. Dieser Sensor ist für Anwendungen unter Atmosphäre und Vakuumanwendungen erhältlich. Dieser Gehäusetyp ist sowohl für Reflexions- als auch für Transmissionsanwendungen erhältlich. Die Sondengröße kann an Spulengrößen von 1 bis 100 mm angepasst werden.
Der Sensor XS ist ein Wirbelstromsensor, der im Reflexionsmodus arbeitet. Er wird in der Regel für die Integration in 3D-Roboter oder Scan-Systeme verwendet, die im Reflexionsmodus arbeiten. Sein Durchmesser beträgt lediglich 30 mm.
Der Sensor XXS ist die kleinste Sensorlösung, die für Messumgebungen mit wenig Platz geeignet ist. Der Sensor hat einen Durchmesser von nur 12 mm und eine Höhe von 50 mm. Dieser Sensor ist für Anwendungen unter Atmosphäre oder Vakuumanwendungen erhältlich. Dieser Gehäusetyp ist für Reflexions- und Transmissionsmessungen erhältlich. Dieser Sensor ist auch in einer Hochtemperaturversion erhältlich. Dieser Sensor wird in der Regel eingesetzt, wenn Sensor S oder Sensor M nicht passen oder die Sensoren mit hohen Temperaturen zurechtkommen müssen.
Der Sensor S-SemiVac ist für Vakuumkammern mit begrenztem Platzangebot geeignet. Er reduziert auch das benötigte Volumen und die Anzahl der Komponenten im Vakuum. SURAGUS bietet verschiedene Versionen an. Die abgebildete Version misst durch ein KF40, andere Optionen messen durch PEAK- oder Glasfenster. Zur Besprechung ihrer Anwendung wenden sie sich bitte an das SURAGUS-Team. Dieser Sensor ist sowohl als Reflexions- als auch für den Transmissionsausführung erhältlich.
The ASU Sensor is mostly used for in-vacuo measurement.
Inline-Überwachungssysteme können in MES oder andere high-level Fertigungssoftware implementiert werden. SURAGUS bietet unabhängige Sensorsysteme mit umfassender Software.
SURAGUS bietet drei Softwarelösungen an:
Funktionen / Algorithmen
SURAGUS bietet mehrere Hardware-Optionen zur SPS-Integration an, u.a. Sensoren mit voller Digitalisierung auf Sensorebene und direkter SPS-Kommunikation.
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