沉积集群设备测量室附件

通过基于非接触式涡流技术的
快速精准近工序测量,实现更高品质的薄膜与基板。

记录晶圆和薄膜的线轮廓。

导言

EddyCus®在线式多腔室模块是用于晶圆沉积集群设备的计量腔室模块。该模块由两个非接触式涡流半真空传感器组成,采用透射模式运行,仅传感器尖端置于真空腔室内,并通过符合SEMI标准的接口与处理腔室连接。

该仪器专用于测量涂覆层的片电阻[欧姆/平方]或金属层厚度[纳米、微米],以及基底的电阻率[毫欧姆·厘米]。 

该软件记录的线性剖面图可揭示涂层或基材的质量状况。针对Endura等常见涂覆设备提供多种设计方案。

互连模块通常用于:

  • 现有沉积系统的测量功能升级
  • 增强型即时质量控制
  • 薄膜电阻率、金属层厚度与电阻率的线性曲线

传感器功能

  • 面电阻 [0.001 – 1,000 欧姆/平方]
  • 金属层厚度 [1 纳米 – 2 毫米]
  • 电阻率 [根据面电阻]

支撑基底

直径为150/200/300毫米的晶圆、玻璃等

可选温度传感器

功能和优点


工艺晶圆的测量

LIVE

实时优化工艺参数

Quality

提升设备性能

Lifeme

早期分拣处理不良、不均匀的晶圆

减少系统停机时间

更高的晶圆吞吐量

$

降低每片晶圆的涂层成本

Data

工艺确认测量

接口

  • OpenAPI / HTTP(Rest API)——可与ASUconnect集成
  • Anybus 接口模块
    • UDP
    • PROFINET
    • Modbus/TCP(应要求提供)
    • EtherCAT(未来功能)
    • 以太网/IP(未来功能)
  • IO模块
    • 2个触发通道(2轴)+ 每通道1个复位
    • 提供5 V直流或24 V直流输入的选项
    • 500 Hz输入(可按要求提供3000 Hz)
    • 可选:触发输出 4..20 mA 和 0..10 V

EddyCus®在线式多通道测量仪视频

该视频向您展示了测量室模块的工作原理。

图片库

EddyCus®在线式多通道测量仪数据表

系统功能

测量技术 非接触式高频涡流传感器
测量地点 在专用计量室的真空环境中
基板 晶圆、玻璃等
测量间隙尺寸 5 – 50 毫米(取决于晶圆处理器)
基板尺寸 150 / 200 / 300 毫米(可提供不同尺寸的MCM)
导电层 金属、合金及其他导电层
测量类型 片电阻、金属厚度、电阻率、晶圆温度
环境 真空环境下,晶圆温度可达500 °C / 932 °F
采样率 每秒1次/10次/50次/100次/1,000次测量
硬件触发器 5 / 12 / 24 伏特

测量能力

板材电阻测量
板材电阻测量范围 0.001 – 1,000 欧姆/平方
金属层厚度测量
金属层厚度范围
(例如:铜、铝、银、金、镍、钛、钽、铂、钨)
1 nm – 2 mm(根据片电阻值)
金属层厚度测量通过转换或直接校准实现(均由软件支持)
电阻率测量
电阻率测量范围 通过转换或直接校准进行电阻率测量(均由软件支持)
发射率测量
发射率测量范围 通过转换进行发射率测量

常见问题

片电阻、金属层厚度、电阻率