Projekt: niniAs

Entwicklung einer nicht-invasiven in-situ Analysemethode zur Schichtdickencharakterisierung in PVD-Prozessen

• Entwicklung eines integrierten Messsystems, das während des PVD-Prozesses simultan Schichtwiderstand und Temperatur präzise erfasst. Dazu werden zunächst die elektrischen Eigenschaften von Metallschichten unter variierenden Temperaturbedingungen experimentell untersucht.
• Parallel dazu werden Modelle zur Auswertung des zeitlichen Verhaltens der elektrischen Signale entwickelt und mit den Messdaten validiert.
• Anschließend erfolgt die Integration dieser Modelle in ein Messsystem, das direkt in die PVD-Anlage eingebunden wird.
• Im letzten Schritt werden die Messgenauigkeit und Prozessfähigkeit an realen Beschichtungsprozessen überprüft und optimiert.

Projektlaufzeit: 01.01.2026 – 30.06.2028